ASML może wkrótce stracić swój cenny monopol? Na horyzoncie pojawił się chiński gracz, który może sporo namieszać na rynku.
Chińska firma Langdao Silex zaprezentowała prototyp źródła światła EUV, które ma pomóc krajowemu przemysłowi półprzewodników ograniczyć zależność od zagranicznych technologii. Dla ASML to wiadomość dość niepokojąca – holenderski producent od dawna cieszy się całkowitym monopolem. Urządzenie FlintNano LPP-OXXO wykorzystuje technologię plazmy generowanej laserowo. Według przedstawionych parametrów źródło emituje promieniowanie EUV o mocy przekraczającej 15 W i może pracować nieprzerwanie przez ponad 100 godzin.
Ale na razie to dopiero pierwszy sygnał, że ktoś podnosi rękę na monopol. Samo źródło światła to dopiero jeden z elementów potrzebnych do budowy zaawansowanych maszyn litograficznych. Na razie nie ma podstaw, by uznać projekt za realną alternatywę dla urządzeń holenderskiego ASML.
Według szacunków przedstawicieli branży wdrożenie rozwiązania na dużą skalę może zająć jeszcze od trzech do pięciu lat. W świecie półprzewodników to już nowa era technologiczna – ASML też nie będzie przecież spało przez najbliższe pięć lat i na pewno pracują nad własnymi innowacjami. Niemniej, Chiny wzięły sobie do serca wiele lekcji wynikających z sankcji i wyraźnie widać, że stawiają na krajowy przemysł.
Niemniej nie taki w całości krajowy. Padła co prawda deklaracja, że 90% komponentów pochodzi z Chin. Ale dotyczy ona tylko źródła światła, a nie kompletnej maszyny litograficznej. Nie można więc traktować jej jako dowodu, że chiński przemysł jest bliski uniezależnienia się od zagranicznych dostawców całych systemów EUV.
Zobacz też:
ASML ma problem – Europa nie chce u nich kupować.
Intel kupuje najdroższe maszyny świata. I to dwie.
LGA 1954 nadchodzi – Intel ma już nowe platformy
