Chiny mają swoją maszynę litograficzną EUV. To olbrzymi cios dla europejskiego ASML i kolejny dowód na uniezależnianie się Chin od reszty świata.
Litografia oparta na ekstremalnie dalekim ultrafiolecie to jedna z najbardziej złożonych technologii wykorzystywanych we współczesnej elektronice. Bez EUV nie da się wytwarzać układów w najnowocześniejszych procesach technologicznych, z których korzystają m.in. Intel czy TSMC przy projektach związanych ze sztuczną inteligencją i wysokowydajnymi obliczeniami.
Przez lata dostęp do tej technologii był bardzo ograniczony Jedynym producentem maszyn EUV pozostaje holenderskie ASML, a eksport tych urządzeń do Chin został skutecznie zablokowany na skutek presji politycznej ze strony Stanów Zjednoczonych. To sprawiło, że Pekin został praktycznie odcięty od najbardziej zaawansowanych narzędzi produkcyjnych. Tymczasem, według źródeł Reutersa chiński prototyp EUV ukończono na początku tego roku i obecnie znajduje się w fazie testów. W projekcie mieli uczestniczyć byli inżynierowie ASML, co może tłumaczyć tempo prac nad tak skomplikowanym systemem.
Choć urządzenie nie jest jeszcze wykorzystywane do realnej produkcji chipów, ma już generować ekstremalne promieniowanie ultrafioletowe. A to fundament całego procesu litografii EUV. To sugeruje, że przełamano jedną z najtrudniejszych barier technologicznych. Chiny celują w uruchomienie własnej produkcji zaawansowanych układów opartych na EUV około 2028 roku. Część ekspertów podchodzi do tych deklaracji ostrożnie i wskazuje raczej na okolice 2030 roku jako bardziej realistyczny termin. Ale dwa lata różnicy to żadna różnica jeśli mówimy o uniezależnieniu się od tak zaawansowanego procesu.
Zobacz też:
TSMC może mieć spore problemy przez Chiny.
Intel kupuje najdroższe maszyny świata. I to dwie.
Radeon RX 9060 XT LP – AMD ma nową kartę w ofercie
